Notícias de Taizhou Como um profundo cultivador no campo de produtos de material de flúor doméstico, Jiangsu RANA Fluorine Material Technology Co., Ltd. (doravante denominada "Jiangsu RANA") sempre se concentrou em P&D e fabricação de produtos de material de flúor PTFE, PFA e ECTFE de grau semicondutor e eletrônico desde sua criação em 1994. Com 32 anos de acumulação técnica, seu revestimento de flange único PFA (comumente conhecido como "Porto ramal PFA" na indústria) tornou-se o principal componente padrão de equipamentos sob condições extremas de trabalho nas indústrias química e de semicondutores, fornecendo suporte fundamental para a indústria anticorrosão e transmissão de fluidos ultralimpos.
O nome padrão da porta de ramificação PFA é forro de flange único PFA / luva flangeada / porta de ramificação inserida em contêiner. É um componente de revestimento integrado feito de resina PFA de alta pureza por meio de moldagem integral ou moldagem por injeção. Sua estrutura central é uma luva reta com flange radial de 2 ~ 5 mm em uma extremidade, e o comprimento pode ser personalizado de acordo com as necessidades, o que é completamente diferente das juntas de tubos convencionais.
De acordo com especialistas técnicos da Jiangsu RANA, este componente tem três funções principais: isolamento médio, transição de conexão e otimização do canal de fluxo. Pode cobrir totalmente a parede interna e a borda da abertura do recipiente, evitando que meios corrosivos entrem em contato com o invólucro metálico; a superfície do flange é conectada diretamente às válvulas externas da tubulação, realizando vedação perfluorada; a parede interna da manga é lisa e sem costuras, evitando retenção média e poluição. Sua vida útil é 5 a 10 vezes maior que a das juntas tradicionais revestidas de PTFE e o risco de vazamento é reduzido em mais de 90%.
Baseando-se em seu centro de P&D autoconstruído e na cooperação de pesquisa indústria-universidade com universidades, o porto da filial PFA de Jiangsu RANA atende aos rígidos padrões de grau de semicondutores: a precipitação de íons metálicos é inferior a 1ppb, a precipitação de TOC é inferior a 0,1μg/cm², e a rugosidade da parede interna Ra é inferior a 0,2μm. Ele pode suportar meios corrosivos fortes, como ácido fluorídrico e ácido sulfúrico concentrado a 150 ℃, com uma taxa de corrosão inferior a 0,01 mm/ano e tem uma faixa de resistência à temperatura de longo prazo de -80 ℃ ~ + 260 ℃. Não apresenta rachaduras ou deformações após 100 ciclos de frio e quente e foi aprovado nas certificações SEMI F57 e FDA. É totalmente adequado para cenários de ponta, como processos de fabricação de semicondutores abaixo de 14 nm e produção asséptica em biomedicina.
